PVD облога - производители на професионални облоги; Обложување во прав, високо подмачкување, температура на оксидација, вакуумски премаз, компанија за обложување PVD, низок коефициент на триење, подобрување на тврдоста на површината; Исклучителна изработка, добредојдовте да прашате ~
Што е PVD? Решенија за прашања поврзани со технологијата за вакуумско позлата за процес на вакуумско позлата:
Карактеристики на PVD: PVD технологијата се појавува при подготовка на филмови со голема цврстина, низок коефициент на триење, добра отпорност на абење и хемиска стабилност.
Преглед на PVD: PVD е исто така познат како рационално таложење на пареа, се однесува на употреба на физички процеси за да се постигне трансфер на материјал, пренесување на атоми или молекули од изворот до процесот на површината на подлогата.
Примена на PVD: до сега, технологијата на физичко таложење на пареа не само што може да депонира метален филм, легиран филм, туку исто така може да депонира соединение, керамика, полупроводник, полимер филм, итн.
PVD технологијата на обложување се користи за обложување на слојот на филмот, со висока цврстина, висока отпорност на абење (низок коефициент на триење), добра отпорност на корозија и хемиска стабилност, животниот век на филмот е подолг; Во исто време, филмскиот слој може значително да го подобри декоративниот изведба на работното парче.
Технологијата на PVD обложување е еколошки метод за третман на површина кој може вистински да добие слој на микрон без загадување. Може да подготви разни единечни метални филмови (како што се алуминиум, титаниум, циркониум, хром, итн.), Нитридни филмови (TiN [титаниум], ZrN [циркониум], CrN, TiAlN), карбидни филмови (TiC, TiCN) и оксид филмови (како што се TiO, итн.).
Технологијата на PVD обложување е еколошки метод за третман на површина кој може вистински да добие слој на микрон без загадување. Може да подготви разни единечни метални филмови (како што се алуминиум, титаниум, циркониум, хром, итн.), Нитридни филмови (TiN [титаниум], ZrN [циркониум], CrN, TiAlN), карбидни филмови (TiC, TiCN) и оксид филмови (како што се TiO, итн.).
Иако употребата на PVD технологија за обложување може да се позлати од висококвалитетен филмски слој, но цената на процесот на обложување PVD всушност не е висока, тоа е многу ефективен метод за површинска обработка, така што во последниве години, технологијата за обложување PVD разви многу брзо. ПВД облогата стана развојна насока на површински третман во хардверската индустрија.
