PVD საფარი - პროფესიონალური საფარის მწარმოებელი
რა არის PVD? ვაკუუმური დაფარვის პროცესთან დაკავშირებული ვაკუუმური დაფარვის ტექნოლოგიასთან დაკავშირებული კითხვების ამოხსნა:
PVD– ის მახასიათებლები: PVD ტექნოლოგია ჩნდება მაღალი სიხისტის, დაბალი ხახუნის კოეფიციენტის, ცვეთის კარგი წინააღმდეგობის და ქიმიური მდგრადობის მქონე ფილმების მომზადებაში.
PVD მიმოხილვა: PVD ასევე ცნობილია როგორც ორთქლის რაციონალური დეპონირება, გულისხმობს ფიზიკური პროცესების გამოყენებას მატერიალური გადატანის მისაღწევად, ატომების ან მოლეკულების წყაროდან სუბსტრატის ზედაპირის პროცესზე გადასატანად.
PVD– ის გამოყენება: დღემდე, ორთქლის ფიზიკური დალექვის ტექნოლოგია არა მხოლოდ ლითონის ფილმის, შენადნობი ფილმის დეპონირებას ახდენს, არამედ ასევე შეუძლია შეიტანოს ნაერთი, კერამიკა, ნახევარგამტარი, პოლიმერული ფილმი და ა.შ.
PVD დაფარვის ტექნოლოგია გამოიყენება ფილმის ფენის მოსაპირკეთებლად, მაღალი სიმტკიცით, მაღალი ცვეთის წინააღმდეგობით (ხახუნის დაბალი კოეფიციენტი), კარგი კოროზიის წინააღმდეგობით და ქიმიური სტაბილურობით, ფილმის სიცოცხლე უფრო გრძელია; ამავდროულად, ფილების ფენას შეუძლია მნიშვნელოვნად გააუმჯობესოს დეკორატიული სამუშაო ნაწილის შესრულება.
PVD საფარის ტექნოლოგია არის ეკოლოგიურად სუფთა ზედაპირული დამუშავების მეთოდი, რომელსაც შეუძლია ნამდვილად მიიღოს მიკრონის საფარი დაბინძურების გარეშე. მას შეუძლია მოამზადოს სხვადასხვა ერთჯერადი ლითონის ფილმები (როგორიცაა ალუმინის, ტიტანის, ცირკონიუმის, ქრომის და ა.შ.), ნიტრიდის ფილები (TiN [ტიტანის], ZrN [ცირკონიუმი], CrN, TiAlN), კარბიდული ფილმები (TiC, TiCN) და ოქსიდი ფილმები (როგორიცაა TiO და ა.შ.).
PVD საფარის ტექნოლოგია არის ეკოლოგიურად სუფთა ზედაპირული დამუშავების მეთოდი, რომელსაც შეუძლია ნამდვილად მიიღოს მიკრონის საფარი დაბინძურების გარეშე. მას შეუძლია მოამზადოს სხვადასხვა ერთჯერადი ლითონის ფილმები (როგორიცაა ალუმინის, ტიტანის, ცირკონიუმის, ქრომის და ა.შ.), ნიტრიდის ფილები (TiN [ტიტანის], ZrN [ცირკონიუმი], CrN, TiAlN), კარბიდული ფილმები (TiC, TiCN) და ოქსიდი ფილმები (როგორიცაა TiO და ა.შ.).
მიუხედავად იმისა, რომ PVD საფარის ტექნოლოგიის გამოყენება შესაძლებელია მაღალი ხარისხის ფილმიდან, მაგრამ PVD დაფარვის პროცესის ღირებულება ნამდვილად არ არის მაღალი, ეს ზედაპირზე დამუშავების ძალიან ეფექტური მეთოდია, ამიტომ ბოლო წლებში PVD დაფარვის ტექნოლოგიამ შეიმუშავა ძალიან სწრაფად. PVD საფარი გახდა ტექნიკის ინდუსტრიაში ზედაპირის დამუშავების მიმართულება.
