Recobriment PVD: fabricants professionals de recobriments; recobriment en pols, alta lubricació, temperatura d’oxidació, recobriment al buit, empresa de recobriment PVD, baix coeficient de fricció, millora la duresa de la superfície;
PVD és què? Solucions a preguntes relacionades amb la tecnologia de recobriment al buit per al procés de recobriment al buit:
Característiques del PVD: la tecnologia PVD apareix en la preparació de pel·lícules amb alta duresa, baix coeficient de fricció, bona resistència al desgast i estabilitat química.
Visió general del PVD: El PVD també es coneix com a deposició racional de vapor, es refereix a l’ús de processos físics per aconseguir la transferència de material, la transferència d’àtoms o molècules des de la font fins al procés superficial del substrat.
Aplicació de PVD: fins ara, la tecnologia física de deposició de vapor no només pot dipositar pel·lícules metàl·liques, pel·lícules d’aliatge, sinó que també pot dipositar pel·lícules compostes, ceràmiques, semiconductores, polimèriques, etc.
La tecnologia de recobriment PVD s’utilitza per recobrir la capa de la pel·lícula, amb alta duresa, alta resistència al desgast (baix coeficient de fricció), bona resistència a la corrosió i estabilitat química, la vida del film és més llarga; Al mateix temps, la capa de la pel·lícula pot millorar molt interpretació de la peça.
La tecnologia de recobriment PVD és un mètode de tractament de superfícies respectuós amb el medi ambient que realment pot obtenir un recobriment a nivell de micres sense contaminació. Pot preparar diverses pel·lícules d’un sol metall (com ara alumini, titani, zirconi, crom, etc.), pel·lícules de nitrur (TiN [titani], ZrN [zirconi], CrN, TiAlN), pel·lícules de carbur (TiC, TiCN) i òxid pel·lícules (com TiO, etc.).
La tecnologia de recobriment PVD és un mètode de tractament de superfícies respectuós amb el medi ambient que realment pot obtenir un recobriment a nivell de micres sense contaminació. Pot preparar diverses pel·lícules d’un sol metall (com ara alumini, titani, zirconi, crom, etc.), pel·lícules de nitrur (TiN [titani], ZrN [zirconi], CrN, TiAlN), pel·lícules de carbur (TiC, TiCN) i òxid pel·lícules (com TiO, etc.).
Tot i que l’ús de la tecnologia de recobriment PVD es pot recobrir amb una capa de pel·lícula d’alta qualitat, però el cost del procés de recobriment PVD en realitat no és elevat, és un mètode de tractament de superfícies molt rendible, de manera que en els darrers anys la tecnologia de recobriment PVD s’ha desenvolupat molt ràpid. El recobriment de PVD s’ha convertit en la direcció de desenvolupament del tractament de superfícies a la indústria del maquinari.
