Revestimento PVD: fabricantes profesionais de revestimentos; Revestimento en po, alta lubricación, temperatura de oxidación, revestimento ao baleiro, empresa de revestimento PVD, baixo coeficiente de fricción, mellorar a dureza da superficie; Exquisito traballo, benvido a consultar ~
Solucións para preguntas relacionadas coa tecnoloxía de revestimento ao baleiro para o proceso de revestimento ao baleiro:
Características do PVD: a tecnoloxía PVD aparece na preparación de películas con alta dureza, baixo coeficiente de rozamento, boa resistencia ao desgaste e estabilidade química.
Descrición xeral do PVD: o PVD tamén se coñece como deposición racional de vapor, refírese ao uso de procesos físicos para lograr a transferencia de material, a transferencia de átomos ou moléculas da fonte ao proceso superficial do substrato.
Aplicación de PVD: ata agora, a tecnoloxía física de deposición de vapor non só pode depositar película metálica, película de aliaxe, senón tamén depositar película composta, cerámica, semicondutora, polimérica, etc.
A tecnoloxía de revestimento PVD úsase para recubrir a capa de película, con alta dureza, alta resistencia ao desgaste (baixo coeficiente de rozamento), boa resistencia á corrosión e estabilidade química, a vida da película é máis longa; Ao mesmo tempo, a capa de película pode mellorar moito a decoración. interpretación da peza.
A tecnoloxía de revestimento PVD é un método de tratamento de superficie respectuoso co medio ambiente que realmente pode obter recubrimento a nivel de micras sen contaminación. Pode preparar varias películas de metal único (como aluminio, titanio, circonio, cromo, etc.), películas de nitruro (TiN [titanio], ZrN [circonio], CrN, TiAlN), películas de carburo (TiC, TiCN) e óxido películas (como TiO, etc.).
A tecnoloxía de revestimento PVD é un método de tratamento de superficie respectuoso co medio ambiente que realmente pode obter recubrimento a nivel de micras sen contaminación. Pode preparar varias películas de metal único (como aluminio, titanio, circonio, cromo, etc.), películas de nitruro (TiN [titanio], ZrN [circonio], CrN, TiAlN), películas de carburo (TiC, TiCN) e óxido películas (como TiO, etc.).
Aínda que o uso da tecnoloxía de revestimento PVD pode revestirse dunha capa de película de alta calidade, pero o custo do proceso de revestimento PVD non é realmente elevado, é un método de tratamento de superficie moi rendible, polo que nos últimos anos a tecnoloxía de revestimento PVD desenvolveuse moi rápido.O revestimento en PVD converteuse na dirección de desenvolvemento do tratamento de superficie na industria do hardware.
