Επίστρωση PVD - επαγγελματικοί κατασκευαστές επιστρώσεων. Επίστρωση σκόνης, υψηλή λίπανση, θερμοκρασία οξείδωσης, επίστρωση κενού, εταιρεία επίστρωσης PVD, συντελεστής χαμηλής τριβής, βελτίωση της σκληρότητας της επιφάνειας. Εξαιρετική κατασκευή, καλώς ήλθατε να ρωτήσετε ~
PVD είναι τι; Λύσεις σε ερωτήματα που σχετίζονται με την τεχνολογία επιμετάλλωσης κενού για τη διαδικασία επιμετάλλωσης κενού:
Χαρακτηριστικά της PVD: Η τεχνολογία PVD εμφανίζεται στην προετοιμασία ταινιών με υψηλή σκληρότητα, χαμηλό συντελεστή τριβής, καλή αντοχή στη φθορά και χημική σταθερότητα.
Επισκόπηση της PVD: Η PVD είναι επίσης γνωστή ως ορθολογική εναπόθεση ατμών, αναφέρεται στη χρήση φυσικών διεργασιών για την επίτευξη μεταφοράς υλικού, τη μεταφορά ατόμων ή μορίων από την πηγή στην επιφάνεια του υποστρώματος.
Εφαρμογή PVD: Μέχρι τώρα, η τεχνολογία απόθεσης φυσικών ατμών όχι μόνο μπορεί να εναποθέσει μεταλλική μεμβράνη, φιλμ κράματος, αλλά και να καταθέσει σύνθετα, κεραμικά, ημιαγωγούς, φιλμ πολυμερούς κ.λπ.
Η τεχνολογία επίστρωσης PVD χρησιμοποιείται για την επίστρωση του στρώματος φιλμ, με υψηλή σκληρότητα, υψηλή αντοχή στη φθορά (συντελεστής χαμηλής τριβής), καλή αντοχή στη διάβρωση και χημική σταθερότητα, η διάρκεια ζωής της μεμβράνης είναι μεγαλύτερη. Ταυτόχρονα, το στρώμα φιλμ μπορεί να βελτιώσει σημαντικά τη διακοσμητική απόδοση του τεμαχίου εργασίας.
Η τεχνολογία επικάλυψης PVD είναι μια φιλική προς το περιβάλλον μέθοδος επιφανειακής επεξεργασίας που μπορεί πραγματικά να αποκτήσει επίστρωση επιπέδου μικρού χωρίς ρύπανση. Μπορεί να προετοιμάσει διάφορα μεμονωμένα μεταλλικά φιλμ (όπως αλουμίνιο, τιτάνιο, ζιρκόνιο, χρώμιο κ.λπ.), φιλμ νιτριδίου (TiN [τιτάνιο], ZrN [ζιρκόνιο], CrN, TiAlN), μεμβράνες καρβιδίου (TiC, TiCN) και οξείδιο ταινίες (όπως TiO, κ.λπ.).
Η τεχνολογία επικάλυψης PVD είναι μια φιλική προς το περιβάλλον μέθοδος επιφανειακής επεξεργασίας που μπορεί πραγματικά να αποκτήσει επίστρωση επιπέδου μικρού χωρίς ρύπανση. Μπορεί να προετοιμάσει διάφορα μεμονωμένα μεταλλικά φιλμ (όπως αλουμίνιο, τιτάνιο, ζιρκόνιο, χρώμιο κ.λπ.), φιλμ νιτριδίου (TiN [τιτάνιο], ZrN [ζιρκόνιο], CrN, TiAlN), μεμβράνες καρβιδίου (TiC, TiCN) και οξείδιο ταινίες (όπως TiO, κ.λπ.).
Παρόλο που η χρήση της τεχνολογίας επικάλυψης PVD μπορεί να επιμεριστεί από στρώμα φιλμ υψηλής ποιότητας, αλλά το κόστος της διαδικασίας επικάλυψης PVD δεν είναι στην πραγματικότητα υψηλό, είναι μια πολύ αποδοτική μέθοδος επεξεργασίας επιφανειών, οπότε τα τελευταία χρόνια, η τεχνολογία επικάλυψης PVD έχει αναπτυχθεί πολύ γρήγορα. Η επίστρωση PVD έχει γίνει η κατεύθυνση ανάπτυξης της επεξεργασίας επιφανειών στη βιομηχανία υλικού.
