เคลือบ PVD - ผู้ผลิตเคลือบมืออาชีพเคลือบผงหล่อลื่นสูงอุณหภูมิออกซิเดชั่นเคลือบสูญญากาศ บริษัท เคลือบ PVD ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำปรับปรุงความแข็งของพื้นผิวฝีมือประณีตยินดีต้อนรับสู่สอบถาม ~
PVD คืออะไรคำตอบสำหรับคำถามที่เกี่ยวข้องกับเทคโนโลยีการชุบสูญญากาศสำหรับกระบวนการชุบสูญญากาศ:
ลักษณะของ PVD: เทคโนโลยี PVD ปรากฏในการเตรียมฟิล์มที่มีความแข็งสูงค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำทนต่อการสึกหรอและเสถียรภาพทางเคมีได้ดี
ภาพรวมของ PVD: PVD เรียกอีกอย่างว่าการสะสมไออย่างมีเหตุผลหมายถึงการใช้กระบวนการทางกายภาพเพื่อให้เกิดการถ่ายโอนวัสดุการถ่ายโอนอะตอมหรือโมเลกุลจากแหล่งกำเนิดไปยังกระบวนการพื้นผิวของสารตั้งต้น
การประยุกต์ใช้ PVD: จนถึงตอนนี้เทคโนโลยีการสะสมไอทางกายภาพไม่เพียง แต่จะสะสมฟิล์มโลหะฟิล์มโลหะผสมเท่านั้น แต่ยังสามารถสะสมสารประกอบเซรามิกเซมิคอนดักเตอร์ฟิล์มโพลีเมอร์เป็นต้น
เทคโนโลยีการเคลือบ PVD ใช้ในการชุบชั้นฟิล์มที่มีความแข็งสูงทนต่อการสึกหรอสูง (ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำ) ทนต่อการกัดกร่อนและเสถียรภาพทางเคมีได้ดีอายุฟิล์มนานขึ้นในขณะเดียวกันชั้นฟิล์มสามารถปรับปรุงการตกแต่งได้อย่างมาก ประสิทธิภาพของชิ้นงาน
เทคโนโลยีการเคลือบ PVD เป็นวิธีการรักษาพื้นผิวที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมซึ่งสามารถได้รับการเคลือบระดับไมครอนอย่างแท้จริงโดยไม่มีมลภาวะ สามารถเตรียมฟิล์มโลหะเดี่ยวต่างๆ (เช่นอลูมิเนียมไทเทเนียมเซอร์โคเนียมโครเมียม ฯลฯ ) ฟิล์มไนไตรด์ (TiN [ไทเทเนียม] ZrN [เซอร์โคเนียม] CrN, TiAlN) ฟิล์มคาร์ไบด์ (TiC, TiCN) และออกไซด์ ภาพยนตร์ (เช่น TiO เป็นต้น)
เทคโนโลยีการเคลือบ PVD เป็นวิธีการรักษาพื้นผิวที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อมซึ่งสามารถได้รับการเคลือบระดับไมครอนอย่างแท้จริงโดยไม่มีมลภาวะ สามารถเตรียมฟิล์มโลหะเดี่ยวต่างๆ (เช่นอลูมิเนียมไทเทเนียมเซอร์โคเนียมโครเมียม ฯลฯ ) ฟิล์มไนไตรด์ (TiN [ไทเทเนียม] ZrN [เซอร์โคเนียม] CrN, TiAlN) ฟิล์มคาร์ไบด์ (TiC, TiCN) และออกไซด์ ภาพยนตร์ (เช่น TiO เป็นต้น)
แม้ว่าการใช้เทคโนโลยีการเคลือบ PVD จะสามารถชุบออกมาจากชั้นฟิล์มคุณภาพสูงได้ แต่ต้นทุนของกระบวนการเคลือบ PVD นั้นไม่สูงนัก แต่ก็เป็นวิธีการเคลือบพื้นผิวที่คุ้มค่ามากดังนั้นในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมาจึงมีการพัฒนาเทคโนโลยีการเคลือบ PVD เร็วมากการเคลือบพีวีดีกลายเป็นทิศทางการพัฒนาของการเคลือบพื้นผิวในอุตสาหกรรมฮาร์ดแวร์
