PVD ծածկույթ - պրոֆեսիոնալ ծածկույթների արտադրողներ. Փոշի ծածկույթ, բարձր յուղայնություն, օքսիդացման ջերմաստիճան, վակուումային ծածկույթ, PVD ծածկույթների արտադրության ընկերություն, շփման ցածր գործակից, բարելավում է մակերեսի կարծրությունը.
PVD- ն ի՞նչ է. Վակուումային ծածկույթի գործընթացի համար վակուումային ծածկույթի տեխնոլոգիային վերաբերող հարցերի լուծումներ.
PVD- ի բնութագրերը. PVD տեխնոլոգիան հայտնվում է բարձր կարծրություն ունեցող, շփման ցածր գործակիցով, մաշվածության լավ դիմադրողականությամբ և քիմիական կայունությամբ ֆիլմերի պատրաստման ժամանակ:
PVD- ի ակնարկ. PVD- ն հայտնի է նաև որպես գոլորշիների ռացիոնալ նստվածք, վերաբերում է նյութական փոխանցման հասնելու համար ֆիզիկական պրոցեսների օգտագործմանը, աղբյուրից ատոմների կամ մոլեկուլների տեղափոխմանը `հիմքի մակերեսային գործընթացին:
PVD- ի կիրառում. Մինչ օրս գոլորշիների նստեցման ֆիզիկական տեխնոլոգիան կարող է ոչ միայն մետաղական թաղանթ, խառնուրդ թաղանթ ներմուծել, այլ նաև կարող է ավանդադրել բարդ, կերամիկական, կիսահաղորդչային, պոլիմերային թաղանթ և այլն:
PVD ծածկույթի տեխնոլոգիան օգտագործվում է ֆիլմի շերտը ծածկելու համար, բարձր կարծրությամբ, հագնում բարձր դիմադրությամբ (շփման ցածր գործակից), լավ կոռոզիայից և քիմիական կայունությունից, ֆիլմի կյանքը ավելի երկար է: Միևնույն ժամանակ, ֆիլմի շերտը կարող է մեծապես բարելավել դեկորատիվը աշխատանքային կտորի կատարում:
PVD ծածկույթի տեխնոլոգիան էկոլոգիապես մաքուր մակերեսային մշակման մեթոդ է, որը կարող է իսկապես ձեռք բերել միկրոն մակարդակի ծածկույթ `առանց աղտոտման: Այն կարող է պատրաստել զանազան մետաղական թաղանթներ (օրինակ ՝ ալյումին, տիտան, ցիրկոնիում, քրոմ և այլն), նիտրիդային թաղանթներ (TiN [տիտան], ZrN [ցիրկոնիում], CrN, TiAlN), կարբիդային թաղանթներ (TiC, TiCN) և օքսիդ ֆիլմեր (օրինակ, TiO և այլն):
PVD ծածկույթի տեխնոլոգիան էկոլոգիապես մաքուր մակերեսային մշակման մեթոդ է, որը կարող է իսկապես ձեռք բերել միկրոն մակարդակի ծածկույթ `առանց աղտոտման: Այն կարող է պատրաստել զանազան մետաղական թաղանթներ (օրինակ ՝ ալյումին, տիտան, ցիրկոնիում, քրոմ և այլն), նիտրիդային թաղանթներ (TiN [տիտան], ZrN [ցիրկոնիում], CrN, TiAlN), կարբիդային թաղանթներ (TiC, TiCN) և օքսիդ ֆիլմեր (օրինակ, TiO և այլն):
Չնայած PVD ծածկույթի տեխնոլոգիայի օգտագործումը կարելի է ծածկել բարձրորակ թաղանթային շերտից, բայց PVD ծածկույթի գործընթացի արժեքը իրականում բարձր չէ, դա մակերեսային բուժման շատ ծախսարդյունավետ մեթոդ է, ուստի վերջին տարիներին զարգացել է PVD ծածկույթի տեխնոլոգիան շատ արագ: PVD ծածկույթը դարձել է ապարատային արդյունաբերության մակերեսի մշակման ուղղություն:
