Acoperire PVD - producători profesioniști de acoperire; Acoperire cu pulbere, lubrifiere ridicată, temperatură de oxidare, acoperire sub vid, companie de acoperire PVD, coeficient scăzut de frecare, îmbunătățesc duritatea suprafeței;
Soluții la întrebări legate de tehnologia de placare sub vid pentru procesul de placare sub vid:
Caracteristicile PVD: Tehnologia PVD apare în prepararea filmelor cu duritate ridicată, coeficient scăzut de frecare, rezistență bună la uzură și stabilitate chimică.
Prezentare generală a PVD: PVD este, de asemenea, cunoscut sub numele de depunere rațională de vapori, se referă la utilizarea proceselor fizice pentru a realiza transferul materialului, transferul atomilor sau moleculelor de la sursă la procesul de suprafață al substratului.
Aplicarea PVD: până acum, tehnologia fizică de depunere a vaporilor nu numai că poate depune folie de metal, folie de aliaj, dar poate depune și folie compusă, ceramică, semiconductoare, polimerică etc.
Tehnologia de acoperire PVD este utilizată pentru placarea stratului de film, cu duritate ridicată, rezistență ridicată la uzură (coeficient scăzut de frecare), rezistență bună la coroziune și stabilitate chimică, durata de viață a filmului este mai mare; În același timp, stratul de film poate îmbunătăți foarte mult decorativul performanța piesei de prelucrat.
Tehnologia de acoperire PVD este o metodă ecologică de tratare a suprafeței care poate obține cu adevărat acoperire la nivel de micron fără poluare. Poate pregăti diverse pelicule din metal unic (cum ar fi aluminiu, titan, zirconiu, crom etc.), pelicule de nitrură (TiN [titan], ZrN [zirconiu], CrN, TiAlN), folii de carbură (TiC, TiCN) și oxid filme (cum ar fi TiO etc.).
Tehnologia de acoperire PVD este o metodă ecologică de tratare a suprafeței care poate obține cu adevărat acoperire la nivel de micron fără poluare. Poate pregăti diverse pelicule din metal unic (cum ar fi aluminiu, titan, zirconiu, crom etc.), pelicule de nitrură (TiN [titan], ZrN [zirconiu], CrN, TiAlN), folii de carbură (TiC, TiCN) și oxid filme (cum ar fi TiO etc.).
Deși utilizarea tehnologiei de acoperire PVD poate fi acoperită din strat de film de înaltă calitate, dar costul procesului de acoperire PVD nu este de fapt mare, este o metodă de tratare a suprafeței foarte rentabilă, astfel încât în ultimii ani, tehnologia de acoperire PVD a dezvoltat foarte rapid. Acoperirea din PVD a devenit direcția de dezvoltare a tratamentului de suprafață în industria hardware.
