PVD povlak - profesionální výrobci nátěrů; Práškové lakování, vysoké mazání, oxidační teplota, vakuové lakování, PVD lakovací společnost, nízký koeficient tření, zlepšení tvrdosti povrchu; Vynikající zpracování, vítejte na dotaz ~
PVD je co? Řešení otázek souvisejících s technologií vakuového pokovování pro proces vakuového pokovování:
Charakteristika PVD: Technologie PVD se objevuje při přípravě fólií s vysokou tvrdostí, nízkým koeficientem tření, dobrou odolností proti opotřebení a chemickou stabilitou.
Přehled PVD: PVD je také známý jako racionální depozice par, označuje použití fyzikálních procesů k dosažení přenosu materiálu, přenosu atomů nebo molekul ze zdroje na povrchový proces substrátu.
Aplikace PVD: až dosud může technologie fyzikálního nanášení par nejen nanášet kovový film, slitinový film, ale také nanášet směsný, keramický, polovodičový, polymerový film atd.
Technologie PVD potahování se používá k pokovování filmové vrstvy, s vysokou tvrdostí, vysokou odolností proti opotřebení (nízký koeficient tření), dobrou odolností proti korozi a chemickou stabilitou, životnost filmu je delší; Současně může vrstva filmu výrazně zlepšit dekorativní výkon obrobku.
Technologie povlakování PVD je metoda povrchové úpravy šetrná k životnímu prostředí, kterou lze skutečně získat povlak na mikronové úrovni bez znečištění. Může připravovat různé jednotlivé kovové filmy (jako je hliník, titan, zirkon, chrom atd.), Nitridové filmy (TiN [titan], ZrN [zirkonium], CrN, TiAlN), karbidové filmy (TiC, TiCN) a oxidy filmy (například TiO atd.).
Technologie povlakování PVD je metoda povrchové úpravy šetrná k životnímu prostředí, kterou lze skutečně získat povlak na mikronové úrovni bez znečištění. Může připravovat různé jednotlivé kovové filmy (jako je hliník, titan, zirkon, chrom atd.), Nitridové filmy (TiN [titan], ZrN [zirkonium], CrN, TiAlN), karbidové filmy (TiC, TiCN) a oxidy filmy (například TiO atd.).
Ačkoli použití technologie potahování PVD lze pokovovat z vysoce kvalitní filmové vrstvy, ale náklady na proces potahování PVD nejsou ve skutečnosti vysoké, jedná se o velmi nákladově efektivní metodu povrchové úpravy, takže v posledních letech byla vyvinuta technologie potahování PVD velmi rychle. Povlak PVD se stal vývojovým směrem povrchových úprav v hardwarovém průmyslu.
